盛美推出负压清洗平台 服务快速发展的芯粒产业

盛美上海进军PECVD市场，支持逻辑和存储芯片制造

盛美上海进军涂胶/显影Track市场，以满足半导体集成电路制造商的光刻工艺需求

盛美上海为Ultra C pr设备新添金属剥离工艺， 以支持功率半导体制造和晶圆级封装应用

盛美上海推出新型热原子层沉积立式炉设备， 以满足高端半导体的生产需求

盛美上海为硅片和碳化硅衬底制造推出新型预清洗设备